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真空鍍膜技術是指在真空環境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬），屬于物理 氣相沉積工藝，因為鍍層常為鋁、錫、銦等金屬的薄膜，故也稱為真空金屬化。

真空鍍膜的功能主要是賦予被鍍件表面具有高度的金屬光澤和鏡面效果，尤其在車燈罩方面有很重要的聚光效果，其次是賦予鍍膜層出色的阻隔性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。

真空鍍膜根據鍍膜氣相金屬產生的方式和沉積方式的不同，分為熱蒸發鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝。其中，磁控濺射法由于鍍膜層和基材的結合力強，鍍膜層致密、均勻等優點，更具有技術優勢。

真空鍍膜材料以金屬和金屬氧化物為主。金屬型鍍膜材料有鋁、錫、銦、鈷、鎳、銅、鋅、銀、金、鈦、鉻、鉬、鎢等；合金型鍍膜材料有鎳-鉻、鎳-鐵、鐵-鈷、金-銀-金等；金屬化合物有二氧化硅、二氧化鈦、二氧化錫等。其中，尤以鋁應用最多最普遍。這主要因為鋁蒸發溫度低、易操作、鋁鍍層對塑料附著力好、對紫外線和氣體阻隔性強、價格低廉。